ООО Компания «Кондор» - комплексные поставки химии для промышленных предприятий Разработка CONDOR OIL - аналог: Shell, Mobil, Газпромнефть
Главная >
Фоторезисты, электронные резисты, химия для литографии
Фоторезисты, электронные резисты, химия для литографии
Процесс фотолитографии является наиболее важным и сложным этапом в производстве микросхем и полупроводниковых приборов.
Материалы компаний Microresist Technology, Microchem, MicroChemicals, AZ Electronic Materials, Dow Corning, Dow Chemical представлены широкой номенклатурой резистов и химии для процесса фото- и электронной литографии. Доступны позитивные, негативные и обращаемые (image-reversal) резисты высокого разрешения для обратной (взрывной) фотолитографии, процессов жидкостного и сухого травления, а также для гальванического осаждения.
Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.
Резисты серий ma-P 1200/ma-N 400 и 1400/ormo для оптической, электронной и наноимпринтной литографии
Позитивные фоторезисты серии ma-P 1200 используются в процессах жидкостного и сухого травления, в качестве маски для ионной имплантации, а также в процессе электроосаждения. Серия включает в себя следующие наименования: ma-P 1205 / 1210 / 1215 / 1225 / 1240 / 1275. Данные материалы отличает высочайшая стабильность рисунка в процессе жидкостного травления и в кислотных и щелочных ваннах при гальваническом осаждении. Отмечается высокая стабильность в процессах сухого травления (CHF3, CF4, SF6). Фоторезисты серии ma-P 1200 могут быть проявлены воднощелочными растворами и относительно легко удалены. Широкий спектр доступных вязкостей позволяет выбрать оптимальный фоторезист для получения желаемой толщины плёнки.
Фоторезисты серий SU-8/KMPR/PMGI/LOR/PMMA для оптической и электронной литографии
Фоторезисты используются для производства МЭМС, изделий микроэлектроники, передовой литографии, специальных дисплеев, корпусирования, оптоэлектроники и других динамично развивающихся технологических секторов. Среди материалов компании Microchem представлены известные фоторезисты серии SU-8 и KMPR, предназначенные для фотолитографии, особые фоторезисты серий PMGI и LOR для процессов обратной литографии, а также электронные резисты PMMA для получения сверхвысокого разрешения в процессах электронной литографии.
Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI для обратной литографии
Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI созданы специально для обратной фотолитографии, а также могут использоваться в процессах сухого и жидкостного травления. Могут наноситься как центрифугированием, так и окунанием или распылением, что позволяет использовать их даже на поверхностях со значительными неоднородностями.
Фоторезисты серий 1500/4000/6000/MIR/35ES/nLOF/nXT для оптической и электронной литографии
Материалы компании Кондор представлены широкой номенклатурой фоторезистов и химии для литографии. Компания Кондор производит позитивные и негативные фоторезисты для процессов жидкостного и сухого травления, а также гальванического осаждения. Также доступны резисты для получения высокого разрешения и процессов обратной (взрывной) фотолитографии. Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.
Dow Corning. Электронный резист XR-1541
Dow Corning XR-1541 – это негативный резист для электронной (e-beam) литографии, позволяющий получать разрешение до 6 нм. Используется для производства фотошаблонов и микросхем нового поколения. Представляет собой материалы высокой чистоты (<10 частиц металлов на миллиард). Резисты поставляются в различной концентрации для получения толщин от 30 до 180 нм в едином цикле. Другие варианты доступны под заказ. Дополнительно поставляются разбавители от Dow Corning для регулирования вязкости.
Dow. Фоточувствительный диэлектрик Cyclotene
Защитные фоточувствительные диэлектрики Cyclotene серии 4000, предлагаемые компанией Кондор, представляют собой высокочистые полимерные материалы, полученные из мономеров на основе бензоциклобутена (BCB), и предназначены для применения тонкоплёночной технологии. Они идеальны для получения тонких диэлектрических слоёв и там, где необходимы защитные слои для пассивации и устойчивость к химическим воздействиям. Материал Cyclotene может служить как защитный слой для кремниевых, арсенид-галлиевых и керамических устройств, действует как негативный фоторезист, а также применяется в качестве диэлектрика с низкой диэлектрической проницаемостью в коммутационных конструкциях из арсенида галлия. Отличные характеристики по выравниванию материала Cyclotene позволяют выполнять плоские структуры межсоединений без применения химико-механической полировки.
По вопросам приобретения фоторезистров, электронных резистров, химии для литографии и получения подробной консультации по свойствам продукции, условиям поставки и заключению договора просим вас обратиться к менеджерам:
+7 495 790 14 52
+7 499 558 37 54
dann-25@bk.ru»
По вопросам приобретения масла и смазок masla.kondor@yandex.ru.
